Hệ thống lắng đọng chùm tia điện tử siêu chân không (UHV E-beam deposition system) đặc trưng bởi mức áp suất thấp hơn 10^-8 ~10^-12 Torr, được ứng dụng phổ biến trong các lĩnh vực hóa học, vật lý và kỹ thuật. Môi trường UHV đóng vai trò cực kỳ quan trọng trong nghiên cứu khoa học, vì các thí nghiệm thường yêu cầu bề mặt phải được duy trì trong trạng thái hoàn toàn không nhiễm bẩn suốt quá trình diễn ra, đồng thời cho phép sử dụng các kỹ thuật thử nghiệm dựa trên ion và electron năng lượng thấp mà không bị nhiễu do hiện tượng tán xạ pha khí. Trong môi trường siêu chân không này, hệ thống E-beam của SYSKEY có thể chế tạo một cách hoàn hảo các màng mỏng chất lượng cao.

Thiết kế cơ chế phủ quay của bệ đỡ đế (substrate) dành cho môi trường siêu chân không và gia nhiệt nhiệt độ cao, sử dụng vòng bi gốm (ceramic) cho chuyển động quay, đồng thời tích hợp chu trình làm mát bằng nước bên trong để bảo vệ cơ chế, đảm bảo độ ổn định khi vận hành trong thời gian dài.