Bay hơi chùm tia điện tử (E-beam evaporation) là một kỹ thuật lắng đọng hơi vật lý (PVD), trong đó chùm tia điện tử được tạo ra từ sợi dây tóc vonfram (tungsten) và được điều hướng bằng điện trường và từ trường hướng về phía vật liệu nguồn, chuyển đổi vật liệu này sang pha khí để lắng đọng lên bề mặt đế.  Quá trình này diễn ra trong môi trường chân không cao để hình thành một màng mỏng trên bề mặt đế thông qua quãng đường tự do trung bình. Phương pháp bay hơi chùm tia điện tử sở hữu nhiều ưu điểm vượt trội hơn so với phương pháp bay hơi nhiệt. Nó có khả năng làm nóng chảy vật liệu ở nhiệt độ rất cao, ngay cả vonfram, graphite,...; dễ dàng kiểm soát tốc độ bay hơi bằng cách kết hợp cảm biến tinh thể thạch anh (quartz crystal sensor) để cung cấp tín hiệu phản hồi nhằm điều chỉnh dòng điện chùm tia e-beam, đồng thời có thể bay hơi nhiều loại vật liệu hơn mà không cần xả chân không. Do đó, bay hơi chùm tia điện tử được sử dụng rộng rãi trong lĩnh vực quy trình màng mỏng, bao gồm bán dẫn, quang học, tấm pin mặt trời, thủy tinh và kính kiến trúc, giúp chúng đạt được các đặc tính dẫn điện, phản xạ, truyền quang và điện tử theo yêu cầu.