Khắc bằng chùm tia ion (IBE) là một kỹ thuật khắc tiên tiến sử dụng nguồn ion để loại bỏ vật liệu khỏi bề mặt đế với độ chính xác và độ đồng đều xuất sắc. Công nghệ IBE có thể áp dụng cho đa dạng các loại vật liệu khác nhau, bao gồm kim loại, oxit, chất bán dẫn và các hợp chất hữu cơ. Phương pháp khắc này liên quan đến việc sử dụng một chùm tia năng lượng cao chứa các hạt mang điện, thường là các ion argon, để oanh tạc và bóc tách vật liệu khỏi bề mặt mẫu một cách vật lý.

Các ion này được tạo ra trong một nguồn ion, được gia tốc đến mức năng lượng cao bởi điện trường, và sau đó được hội tụ thành một chùm tia bằng cách sử dụng các thấu kính từ trường hoặc thấu kính tĩnh điện. Khi chùm tia ion được điều hướng thẳng vào bề mặt của mẫu, nó sẽ va chạm với các nguyên tử trong vật liệu, khiến chúng bị đánh bật ra khỏi bề mặt. Bằng cách điều chỉnh năng lượng của chùm tia ion và góc bắn của chùm tia, quy trình khắc có thể được kiểm soát một cách cực kỳ chính xác.