Sản phẩm
Màng carbon giống kim cương
Màng carbon giống kim cương (DLC) được hình thành từ việc kết hợp liên kết sp3 nồng độ cao (Kim cương) với liên kết sp2 nồng độ thấp.
Hệ thống PECVD dạng mẻ
Hệ thống lắng đọng hơi hóa học nâng cao bằng plasma dạng mẻ (Batch Type PECVD) có thể cung cấp năng lượng cho phản ứng lắng đọng.
Lắng đọng lớp nguyên tử
Công nghệ này có thể được coi là một dạng đặc biệt của lắng đọng hóa học từ pha hơi (CVD). Phần lớn các phản ứng ALD đều sử dụng hai hoặc nhiều loại hóa chất được gọi là chất tiền chất (precursors).
Hệ thống lắng đọng lớp nguyên tử bằng nhiệt
Trong hầu hết các phản ứng ALD, hai chất hóa học được sử dụng làm tiền chất. Các tiền chất này phản ứng với bề mặt vật liệu theo phương thức liên tục và tự giới hạn (self-limiting).
Hệ thống lắng đọng lớp nguyên tử hỗ trợ bằng plasma
Quy trình này cho phép chế tạo các màng mỏng thuận hình (conformal) từ đa dạng các loại vật liệu với khả năng kiểm soát ở cấp độ nguyên tử, mà không cần nhiệt độ cao để cung cấp năng lượng kích hoạt cần thiết.
Khắc mòn plasma
Khắc mòn khô (được biết đến là khắc mòn khô bằng plasma) là quá trình loại bỏ các vật liệu ra khỏi bề mặt của một loại vật liệu khác.
Hệ thống khắc ion phản ứng
Quy trình RIE là một quy trình khắc vật lý - hóa học, và là quy trình quan trọng nhất để định hình các cấu trúc màng mỏng khác nhau trong sản xuất bán dẫn.
Hệ thống khắc ion phản ứng plasma cảm ứng khơi mào
Plasma mật độ cao được tạo ra, bao bọc bởi cuộn cảm, và hoạt động như cuộn thứ cấp trong một máy biến áp, giúp gia tốc các electron và ion, từ đó gây ra các va chạm để sinh ra nhiều ion và electron hơn nữa.
Hệ thống khắc lớp nguyên tử
Khi kích thước chức năng của linh kiện tiếp tục thu nhỏ hơn nữa, việc ứng dụng công nghệ ALE là điều bắt buộc để đạt được độ chính xác theo yêu cầu.
We use cookies to ensure that we give you the best experience on our website. If you continue to use this site we will assume that you are happy with it.(Privacy policy)