Sản phẩm

Hệ thống PECVD dạng mẻ

OLEDs / Màn hình

OPV / Pin mặt trời Perovskite

Công nghiệp bán dẫn

Nghiên cứu vật lý / vật liệu

Hệ thống lắng đọng hơi hóa học nâng cao bằng plasma dạng mẻ (Batch Type PECVD) có thể cung cấp năng lượng cho phản ứng lắng đọng. So với phương pháp CVD truyền thống, hệ thống này có thể lắng đọng đa dạng các loại màng ở nhiệt độ thấp hơn mà không làm giảm chất lượng màng. Hệ thống này được thiết kế chuyên dụng cho quy trình phủ Parylene. Bệ đỡ đế (substrate) của thiết bị có thể thực hiện đồng thời chuyển động tự quay (rotate) và chuyển động quay quanh trục/quỹ đạo (orbit), hỗ trợ sản xuất hàng loạt theo mẻ. Màng Parylene sở hữu các đặc tính vượt trội như độ đồng đều cao, khả năng lấp đầy cao, độ xuyên thấu cao, v.v., và có thể ứng dụng rộng rãi trong đóng gói bảo vệ quang điện tử (electro-optical package) cũng như cách điện cho bo mạch PCB.

Ứng dụng	Buồng chân không
Lớp phủ chống mài mòn cho các sản phẩm y tế & thương mại. Đóng gói bảo vệ, cách điện/cách ly. Màn hình hiển thị chống trầy xước.	Kích thước buồng linh hoạt, phụ thuộc vào kích thước đế và ứng dụng. Kiểm soát nhiệt độ buồng bằng cách sử dụng ốp gia nhiệt, Nước làm mát, Nước nóng.
Cấu hình và lợi ích	Tùy chọn
Kích thước đế linh hoạt. Quy trình xử lý đa wafer (Multi wafers). Độ đồng đều màng mỏng xuất sắc dưới ±3%. Bộ điều khiển lưu lượng khối (MFC) với khả năng phân phối khí đồng đều cao. Plasma ghép cặp điện dung (CCP) dạng trực tiếp và dạng từ xa.